ABSTRACT

in FHOTES

«Physikalisch-chemische Stiftungen und thermische Vakuumverdampfung Abscheidungsmaterialien »


Inhalt

Einleitung

1. nbsp; Schichtabscheidung Vakuum

2 nbsp; Verfahren thermische Verdampfung

3. nbsp; Der Vakuumgrad

4 nbsp; Durchschnittliche Länge freie Weglänge der Moleküle

5. nbsp; Wirkung der Vakuum Filmabscheidungsprozess

6. nbsp; Vakuumsysteme

6.1 Überblick

6,2 Vacuum Produktionsmittel

6.3 Mittel zum Messen des Vakuum

Fazit

Referenzen


Einleitung

Die weit verbreitete Verwendung in Elektronik bekam dünne Metall-, Halbleiter- und dielektrischen Schichten auf nonorienting und Orientierungs gewachsen Substrate.

Die wichtigsten Methoden Herstellung von Folien für nicht Fokussierung Vakuumverdampfung, Ionen- chemische Dampfabscheidung und Sputtern. [1]

Die Technik Anwendung Schaffung von dünnen Filmen und einer Vakuumbearbeitungskammern Einstellungen auf der Grundlage die molekulare kinetischen Theorie der Struktur der Materie.

Die Stoffe in der Natur bestehen aus kleinsten Teilchen - Moleküle, die vorhanden sein können eigenen und besitzen alle Eigenschaften des Stoffes.

Verhaltensbeobachtungen jede Substanz zeigte, dass seine Moleküle sind in ständiger chaotischen Bewegen egal, in welchem ​​Zustand das Material ist: das flüssige, fest oder gasförmig. Aufgrund interner kinetische Diese Bewegung ist Energie des Materials, die zu seiner Temperatur in Beziehung steht. Daher ungeordneten Bewegung, die ein Molekül namens Wärme enthält, und die Theorie, dass Studien die thermische Bewegung der Moleküle -. die kinetische Theorie der Materie

Wenn ein Unternehmen Gegenstand Erwärmen und dann bei einer bestimmten Temperatur beginnt es zerkleinert und umgewandelt Flüssigkeit. Beim weiteren Erhitzen die Flüssigkeit zu verdampfen beginnt, sich in Paar, das heißt geht in einen gasförmigen Zustand.

verdünnt Zustand Gas, das heißt ein Zustand, wo der Gasdruck in einem geschlossenen ein abgedichtetes Volumen subatmosphärischen genannte Vakuum. [2]


1 ist. Anwendungs ​​Filme Vakuum

Der Prozess der Anwendung dünner Filme im Vakuum eine Richtung gerichtet Partikelstrom zur Verfügung zu stellen das Substrat behandelt wird, und die anschließende Kondensation unter Bildung eine Dünnfilmschicht auf der zu beschichtenden Oberfläche.

Somit wird, wenn Abscheidung von dünnen Schichten gleichzeitig statt drei grundlegende Prozesse: Generation gerichtete Strömung von Teilchen abgeschiedenen Materials; Spannweite ausgetragenen (Vacuum) Raum von der Quelle zu der zu behandelnden Oberfläche; Abscheidung (Kondensation) auf der Oberfläche der Teilchen, um einen dünnen Film zu bilden Schichten.

Gemäß dieser Vakuumsysteme zur Dünnfilmabscheidung, trotz der Vielfalt ihrer Ziel und konstruktive Ausführung, besteht aus folgenden Haupt Elemente: eine Quelle zum Erzeugen eines Stroms von Teilchen abgelagerten Materials; Vakuum System, die Bereitstellung der erforderlichen Voraussetzungen für technologische Prozess; Positionieren der Transporteinrichtung ein Eingangssignal für das Substrat Bereich Filmabscheidung und Ausrichtung der bearbeiteten Flächen gegen Beschichtungsmaterialströmung Teilchen.

Der Prozess der Anwendung dünner im Vakuum Folien besteht aus den folgenden Operationen:

- Installation und Befestigung Substrate auf dem Substrat bei erhöhter Kappe verarbeitet werden;

- Schließen (Abdichtung) die Arbeitskammer und auf die gewünschte Vakuum pumpen;

- Anschluss des Netz, Erstellen von Atom (molekulare) Strom des hinterlegten Materials;

-LEIMAUFTRAG Film bestimmter Dicke an ständig Quelle Partikelfluss und Vakuumsystem

- das Gerät ausschalten, Partikelstrom und Kühl...


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